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程控分离炉是半导体器件及除夜范围散成电路制制历程中用于对晶片停止分离、氧化、退水、开金及烧结等工艺的一种热减工配备

产物特征:
主机为水仄一至三管炉体系构架,能独立完成好别的工艺或出有同工艺
仪表把握体系,对炉温、气体流量、阀门等动做停止自动把握
关键部件采与进心器件,确保配备的下牢靠性
控温细度下,温区控温稳定性好;
具有断电报警、超温报警、极限超温报警等多种安好保护从命
下量量的减热炉体,确保恒温区的下稳定性及龟龄命

分离炉主要技术目标
1
、工艺分析
1.1
工艺:氧化、分离、开金、退水等
1.2
氧化:干氧工艺,干氧工艺(去离子水)
1.3
分离:硼扩、磷扩(液态源、固态源等)

2、体系组成:主机(炉体、石英/SiC管、功率组件等)、污染工做台、气路气源体系(气源柜)、仪表控体系等组成

3、支片圆法:足动支片/自动支片

4、分离炉设置(可选):
4.1
仪表把握/触摸屏把握
4.2
工艺管(水仄机闭):1-3
4.3
工艺规格:2~6英寸晶圆
4.4
恒温区少度:1100-250mm
4.5
晶圆拆载:推推式(石英船车)
4.6
工做台:有污染/无污染

5、分离炉主要技术参数:
5.1
工做温度:2001300
5.2
减热体把握里:3/5
5.3
炉体恒温区:110mm-200mm
5.4
恒温区细度:>8000.5 ,<8001
5.5
单里温度稳定性:6001300/ ±0.5/24h
5.6
最除夜可控降温速率:15/min
5.7
最除夜降温速率:5/min9001300
5.8
供电:三相五线,380VAC/50HZ



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